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OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng)RH50

RH50 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng) 對應微LED等微小樣品的配光測定系統(tǒng)RH50.。與光學模擬軟件的聯(lián)合是可能的，可以簡單地高速取得2π空間全方位的光線。50×50mm尺寸以上請看GP-7 series。OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng)RH50OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng)RH50
OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3Rθ

SF-3Rθ OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng) *多可以快速映射12inch晶片OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3Rθ
OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3Rθ

SF-3Rθ OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3Rθ
OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAF

SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAF
OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AA

SF-3AA OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AA
OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統(tǒng)GS-300

GS-300 OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，X-Y定位精度在2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統(tǒng)GS-300OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統(tǒng)GS-300OTSUKA大冢-負載端口對應膜厚測量系統(tǒng)GS-300
OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200

　SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200
OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300

　SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300
OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300

　SF-3/1300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300
OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BB

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OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500

　AT-1500 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500
OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計

OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計OTSUKA大冢-卓上型線掃描膜厚計
OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000

　AT-5000 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000
OTSUKA大冢-線掃描膜厚計

OTSUKA大冢-線掃描膜厚計在線薄膜生產(chǎn)現(xiàn)場能夠?qū)Ρ∧さ哪ず襁M行全幅、全長測量的裝置。通過在獨自的分光干涉法中組合新開發(fā)的高精度膜厚演算處理技術，以每*短0.01秒的測定間隔，可以進行500mm寬(1臺使用時)的薄膜的膜厚測定。OTSUKA大冢-線掃描膜厚計OTSUKA大冢-線掃描膜厚計
OTSUKA大冢-分光器FE-5000S

　FE-5000S OTSUKA大冢-分光器除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現(xiàn)測量角度的自動可變機構(gòu)，也對應于所有種類的薄膜。除以往的旋轉(zhuǎn)檢光子法之外，通過設置相位差版的自動脫穿機構(gòu)，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
OTSUKA大冢-分光器FE-5000

　FE-5000 OTSUKA大冢-分光器除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現(xiàn)測量角度的自動可變機構(gòu)，也對應于所有種類的薄膜。除以往的旋轉(zhuǎn)檢光子法之外，通過設置相位差版的自動脫穿機構(gòu)，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000

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